日本MITSUIELECTRIC三井电气纳米压印TM-02
日本MITSUIELECTRIC三井电气纳米压印TM-02该装置的纳米压印装置可以通过单一单元实现热固化和光固化两种方法，并通过来自上方的印刷压力进行压印。不仅可以设定所需的冲压负荷/速度、剥离负荷/剥离速度，还可以将研究开发样机生产所需的各种条件和测量结果记录在PC上，以便在以后的生产中使用。在设定条件方面发挥作用[本机规格]压印法热固化法/光固化法压力/负载速度（总压力）1 至 1000 微米
日本MITSUIELECTRIC三井电气纳米压印TM-02
该装置的纳米压印装置可以通过单一单元实现热固化和光固化两种方法，并通过来自上方的印刷压力进行压印。
不仅可以设定所需的冲压负荷/速度、剥离负荷/剥离速度，还可以将研究开发样机生产所需的各种条件和测量结果记录在PC上，以便在以后的生产中使用。在设定条件方面发挥作用
[本机规格]
| 压印法 | 热固化法/光固化法 |
|---|---|
| 压力/负载速度（总压力） | 1 至 1000 微米/秒 |
| 最大负载 | 从室温到 250°C |
| 工作尺寸 | 50×50mm |
【测试条件】
负载检测
印刷速度
剥离速度
真空度/各温度
每小时