日本MITSUIELECTRIC三井电气纳米压印TM-04
日本MITSUIELECTRIC三井电气纳米压印TM-04本机规格]压印法光固化方式紫外装置性能光强度 6.0mW/cm2波长最大 370mm按负载1 至 20N样本量10 毫米 x 10 毫米新闻发布速度20毫米/秒电源AC100V或DC12V 2.3A小电池样品板硅片/玻璃基板设备尺寸H469×W300×D200 (mm)
日本MITSUIELECTRIC三井电气纳米压印TM-04本机规格]压印法光固化方式紫外装置性能光强度 6.0mW/cm2波长最大 370mm按负载1 至 20N样本量10 毫米 x 10 毫米新闻发布速度20毫米/秒电源AC100V或DC12V 2.3A小电池样品板硅片/玻璃基板设备尺寸H469×W300×D200 (mm)
日本MITSUIELECTRIC三井电气纳米压印TM-04
本机规格]
压印法 | 光固化方式 |
---|---|
紫外装置性能 | 光强度 6.0mW/cm2 波长最大 370mm |
按负载 | 1 至 20N |
样本量 | 10 毫米 x 10 毫米 |
新闻发布速度 | 20毫米/秒 |
电源 | AC100V或 DC12V 2.3A小电池 |
样品板 | 硅片/玻璃基板 |
设备尺寸 | H469×W300×D200 (mm) |