日本原装片面処理用PL17-110型 卓上型光表面処理装置
日本原装片面処理用PL17-110型 卓上型光表面処理装置光 表 面 処 理 装 置 と 光 源概 要 固体表面の接着力や親水性を高める処理法には、無水クロム酸や硫酸などの劇薬を用いる湿式プロセスから電子やイオンを用いるドライプロセスまで多くの工法がある。 その中で紫外線(UV)を用いるUV光表面処理装置はドライプロセスで、大気中で処理でき、UV改質とUV洗浄の二つの効果を併せ持ち、対象製品にあた
- 型号： 片面処理用PL17-110型
日本原装片面処理用PL17-110型 卓上型光表面処理装置
| 光 表 面 処 理 装 置 と 光 源 |
| 概 要 固体表面の接着力や親水性を高める処理法には、無水クロム酸や硫酸などの劇薬を用 いる湿式プロセスから電子やイオンを用いるドライプロセスまで多くの工法がある。 その中で紫外線(UV)を用いるUV光表面処理装置はドライプロセスで、大気中で処 理でき、UV改質とUV洗浄の二つの効果を併せ持ち、対象製品にあたえるダメージが小 さい新時代の技術として注目されている。UVオゾン法の改質は、表面の接着力を科学 的に向上させ、洗浄は表面の接着力を阻害する有機化合物汚染を除去して間接的に接着 力を向上させ、共に品質と歩留まりを高める効果がある。 |  |
| UV/オゾン表面処理法のメカニズム |
| UVオゾン表面処理法が出来ることとは、固体表面の改質と洗浄である。どちらの反 応は起きるかは素材に依存し、ガラスやセラミックには洗浄作用が働き、プラスチックや 金属には改質と洗浄の両方が働く。UV光の照射を受け有機化合物がそのエネルギーを吸 収すると、光エネルギーより弱い分子結合が切れる可能性を生じる。光のエネルギーは波 長が短いほう高い。有機物の結合エネルギーはUVランプの光と同等か低いものが多い。 波長が240nm以下の光は酸素を分割して、オゾン生成する。低圧水銀ランプの185nm 線は以下に示す各式の反応を経でオゾンを生成し、254nm線は、活性酸素の生成を促進 する能力がある。行きの式におえhνはひかりを括弧内の数値は波長を現す。(3P)は規則 状態の原子、(1D)は励起状態の原子を示す。 O2+hν(185nm)→O(3P) + O(3P) O2+O(3P)+M→O3) O3+hν(254nm)→O2+(1D) |   |
| バッチ型UV光表面洗浄・改質装置 引出し構造のバッチ型光洗浄改質装置は、シンプルに構成されている為、安価版設備 として多数採用されています。オフラインの生産時や、設置スペースに制限が有る場 合に最適です。ランプ選定はワークサイズに合わせて採用し、ランプ本数は生産タクト タクト（搬送速度）に合わせた本数選定が可能です。 コンベア型UV光表面洗浄・改質装置 ワークを搬送しながら紫外線を照射出来るローラー又はＳＵＳネットコンベア－タイプ の紫外線洗浄装置は駆動部を構造的に遮蔽する事で、よりクリーンな搬送を可能とし た生産設備です。ランプ選定はワークサイズに合わせて採用し、ランプ本数は搬送速 度（生産タクト）に合わせた本数選定が可能です。 卓上型UV光表面処理装置 卓上型光表面処理装置は、110W低圧水銀ランプの採用により強力な表面処理が行える、 コンパクト設計により設置スペースをとらない事に加え、低コストで、大学やR&D研究 所で最も人気がある卓上型光表面処理装置です。 用 途  LCPフィルムを素材とするフレキシフル多層プリント回路基板 銅張ポリイミド基板 高密度回路に使われる基板 PCB回路基板 HD, FPD, プラズマテレビ等 |    |
| 卓上型光表面処理装置 |
| 卓上型光表面処理装置は、世界中の大学、研究所、小規模生産に使用されているベスト セラーのポータブル光表面洗浄・処理装置です。シャッター付きの新型は、ＵＶランプ がオッフせず安全に使用出来るので、紫外線のランプの寿命も補助する。
|  片面処理用PL17-110型  両面処理用PL2002N-54型 2.5" x 4 ディスクトレー付き | |||||||||||||||||||||||||||||||||||