KURATA仓敷化工 半导体制造工艺设备高楔HWM-SC1111

KURATA仓敷化工 用于机床的底盘防震部件HWM-P1111

KURATA仓敷化工 用于机床的底盘防震部件HWM-P1314

KURATA仓敷化工 用于机床的底盘防震部件HWM-SP1111

KURATA仓敷化工 低扭矩高精度高楔HWM-SP1314

KURATA仓敷化工 低扭矩高精度高楔HWM-C1111

KURATA仓敷化工 低扭矩高精度高楔HWM-C1314

KURATA仓敷化工 半导体制造工艺设备高楔HWM-SC1111

楔形机构实现了低扭矩和高精度的校平。

此外，由于主体的刚性很高，因此消除了低频区域的共振。

提高了刚性和调平精度，适用于中小型机械。

最大支撑载荷：16-70kN

通过采用平缓的双面倾斜楔形结构，可以以较小的扭矩发挥较大的推力。

HDR高阻尼摇杆

采用新开发的HDR，以优异的阻尼性能加速机器自激振动的收敛，具有出色的蠕变性能，可实现长期稳定性，并能够承受高表面压力。

它还具有优异的耐油性和不迁移颜色。

水平调整螺栓

通过采用在水平调整时螺栓头部的位置不移动的独特构造，提高了作业性和作业的安全性。

稳定机构

地板倾斜度最高可达±3°，可使设备保持水平，实现稳定、安心的工作环境。

固定螺栓孔和锚固通孔

在锚固螺栓孔中增加了锚固通孔，提高了稳定性。

主要用途

・FPD制造工艺设备

・半导体制造工艺设备

・精密金属加工机

・无尘室安装大型机械

・大型精密测量仪器