日本UNITEMP尤尼坦 工艺气体快速退火炉 VPO-1000-300/HV

除了原型开发应用外，还可以集成到在线系统新型N2、H2 和甲酸，可兼容高达 2000 hPa (= 0.2 MPa) 的过压 兼容真空回流退火工艺和 LTO 烧结！                                          

加热区上下设有IR（红外线）型加热器，最高温度可达1000℃，并可高速升温40K/秒。采用氮气吹扫方式的冷却方式，实现高达200K/min的降温。
触摸屏用于轮廓程序控制。
除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您还可以保存过程数据。采用硅晶圆键合的玻璃上硅太阳能电池。
它可以加热最大300x300mm或Φ300mm的物体。

• 这是一款真空工艺快速加热炉，尽管其桌面尺寸，最高温度可达1000℃ （可选配可达1200℃） 。

• 兼容氮气吹扫、氧气吹扫、合成气（氢气+氮气）吹扫等。

• 由于工作区域是气体保护的，因此可用于存在污染问题的工艺或其他关键工艺。

• 加热由顶部和底部的 36 个 IR（红外线）加热器进行，可实现准确、快速的加热。

• 与适当的真空泵组合，可实现高达0.1Pa（10-3hPa）的真空环境。

• 兼容氮气吹扫法的温度下降

• 标准配备触摸屏显示器。通过触摸操作轻松操作

• 主机上最多可注册50个50段（行）的温度控制程序。

最多可以安装4个MFC（质量流量控制器）系统，因此除了真空或大气环境之外，还可以在任何工艺气体吹扫环境中进行退火。不仅可以在配置文件程序中注册各种气体系统的开/关控制，还可以注册其流量，从而可以轻松再现各种环境。配备高速红外线（IR）加热器，最高可升温至每分钟2400℃以上（每秒40℃以上）。当然，也可以以轮廓程序指定的任何速率升高温度。另外，在降温过程中，通过向腔室中供应冷却氮气，可以安全地进行冷却，而不会损坏处理后的器件表面。标准配备设备外壳冷却装置。最高温度可达 1000℃（可选最高 1200℃），确保安全。因此，它不仅可以轻松应对 SiAu、SiAl 和 SiMo 等退火工艺，还可以轻松应对糊料材料等烧结工艺。