原装UNITEMP尤尼坦 高速退火炉 RTP-150

加热区上下设有IR（红外线）型加热器，最高温度可达1000℃，并可高速升温75K/秒。
采用氮气吹扫法的冷却方法，可实现高达200K/min的温降。
触摸屏用于轮廓程序控制。
除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您还可以保存过程数据。
它可以加热最大尺寸为 156 x 156 毫米或 Φ150 毫米的物体。

• 真空工艺快速加热炉，尽管其桌面尺寸，最高温度可达1000℃。

• 兼容氮气吹扫、氧气吹扫、合成气（氢气+氮气）吹扫等。

• 由于工作区域是气体保护的，因此可用于存在污染问题的工艺或其他关键工艺。

• 加热由顶部和底部的 24 个 IR（红外线）加热器进行，可实现准确、快速的加热。

• 与合适的真空泵结合使用，可实现高达 0.1 Pa (10 -3  hPa) 的真空环境（使用 HV 选项时可达 10-6 hPa）。

• 兼容氮气吹扫法的温度下降

• 标准配备触摸屏显示器。通过触摸操作轻松操作

• 主机上最多可注册50个50段（行）的温度控制程序

标配7英寸触摸屏。任何控制配置文件程序都可以在触摸面板上创建和保存，无需单独的外部 PC。最多可注册并执行 50 个 50 个步骤的温度控制程序。此外，标准配置还包括将实验数据保存到 USB 存储器的功能。通过 USB 存储器也可以轻松地将实验数据移动到任何 PC。

最多可以安装4个MFC（质量流量控制器）系统，因此除了真空或大气环境之外，还可以在任何工艺气体吹扫环境中进行退火。不仅可以在配置文件程序中注册各种气体系统的开/关控制，还可以注册其流量，从而可以轻松再现各种环境。

配备高速红外 (IR) 加热器，能够高速加热至每分钟 4500°C 以上（每秒 75°C 以上）（选配时可达 150K/秒）。当然，也可以以轮廓程序指定的任何速率升高温度。另外，在降温过程中，通过向腔室中供应冷却氮气，可以安全地进行冷却，而不会损坏处理后的器件表面。