现货UNITEMP尤尼坦 真空工艺快速退火炉 RTP-100
非常适合原型开发应用在加热区域的顶部和底部配备IR（红外线）型加热器，可实现最高温度1200℃和1200K/秒的高速升温。采用氮气吹扫法的冷却方法，可实现高达200K/min的温降。 （400至100℃，此后30K/min。）触摸屏用于轮廓程序控制。除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您还可以保存过程数据。它可以加热最大100x100mm或Φ100mm的物体。尽管桌面
非常适合原型开发应用
在加热区域的顶部和底部配备IR（红外线）型加热器，可实现最高温度1200℃和1200K/秒的高速升温。采用氮气吹扫法的冷却方法，可实现高达200K/min的温降。 （400至100℃，此后30K/min。）
触摸屏用于轮廓程序控制。
除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您还可以保存过程数据。
它可以加热最大100x100mm或Φ100mm的物体。
尽管桌面尺寸可实现最高温度1200℃的真空工艺快速加热炉。
兼容氮气吹扫、氧气吹扫、合成气（氢气+氮气）吹扫等。
由于工作区域是气体保护的，因此可用于存在污染问题的工艺或其他关键工艺。
通过顶部和底部的18个IR(红外线)加热器20进行加热，从而能够准确且快速地加热。
与适当的真空泵结合使用，可实现高达 0.1 Pa (10 -3 hPa)（HV 最大 10-6 hPa）的真空环境。
兼容氮气吹扫法的温度下降
标准配备触摸屏显示器。通过触摸操作轻松操作
主机上最多可注册50个50段（行）的温度控制程序。
配备高速红外线（IR）加热器，每分钟（200K/秒）最高可升温12,000℃以上。当然，也可以以轮廓程序指定的任何速率升高温度。另外，在降温过程中，通过向腔室中供应冷却氮气，可以安全地进行冷却，而不会损坏处理后的器件表面。
有效加热面积为100x100x18mm，但通过使用可选的适配器，它可以支持Φ50mm和Φ75mm的晶圆。
标准配备1条质量流量控制器（MFC）气体管线，可通过程序（物体）自由设定气体流量并使用。总共可以添加4个气体模块，并且还可以使用质量流量控制器来控制气体流量。
腔室外壳可承受高达 0.1 Pa (10-3 mbar)（HV 最大 10-6 hPa）的真空度，因此通过适当选择要连接的真空泵，它也可以在高真空环境中使用。能。此外，该设备最重要的一点是它可以使用 IR（红外）加热器处理高达 70K/秒的高温升温速率。
配置文件程序由新型触摸屏控制器精确控制。您可以在触摸屏控制器（SPS控制器）上注册最多50个最多50段（线）的程序，因此您可以通过简单的操作调用并执行所需的加工程序。除了创建程序外，您还可以将执行过程的各种数据保存为 CSV 格式，因此您只需主机即可完成所有操作，而无需依赖外部 PC。