日本UNITEMP尤尼坦 高速退火炉 RTP-200

加热区顶部和底部配备IR（红外线）型加热器，最高温度可达1000℃，升温速度高达50K/秒（EP选件为100K/秒）。 。
采用氮气吹扫法的冷却方法，可实现高达200K/min的温降。
触摸屏用于轮廓程序控制。
除了创建温度控制、气体流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您还可以保存过程数据。
它可以加热最大尺寸为 182 x 182 毫米或 Φ200 毫米的物体。

• 真空工艺快速加热炉，尽管其桌面尺寸，最高温度可达1000℃。

• 兼容氮气吹扫、氧气吹扫、合成气（氢气+氮气）吹扫等。

• 由于工作区域是气体保护的，因此可用于存在污染问题的工艺或其他关键工艺。

• 加热由顶部和底部的 24 个 IR（红外线）加热器进行，可实现准确、快速的加热。

• 与合适的真空泵结合使用，可实现高达 0.1 Pa (10 -3  hPa) 的真空环境（使用 HV 选项时可达 10-6 hPa）。

• 兼容氮气吹扫法的温度下降

• 标准配备触摸屏显示器。通过触摸操作轻松操作

• 主机上最多可注册50个50段（行）的温度控制程序

有效加热面积为183x 183 x 40毫米或M10 182 x 182毫米太阳能晶圆，但通过可选适配器，它可以容纳Φ200毫米和Φ100毫米晶圆。

此外，通过配备双室选件，可以同时处理两个晶圆。

标准配备一根质量流量控制器（MFC）气体管线，可通过程序自由设定气体流量，并可连接使用。总共可以添加4个气体模块，并且还可以使用质量流量控制器来控制气体流量。

腔室外壳 可承受高达 0.1 Pa (10 -3

配置文件程序由新型触摸屏控制器精确控制。您可以在触摸屏控制器（SPS控制器）上注册最多50个最多50段（线）的程序，因此您可以通过简单的操作调用并执行所需的加工程序。除了创建程序外，您还可以将执行过程的各种数据保存为 CSV 格式，因此您只需主机即可完成所有操作，而无需依赖外部 PC。