仓库现货OHKURA大仓 化学清洗装置（化学回收法） SP4200C
仓库现货OHKURA大仓 化学清洗装置（化学回收法） SP4200C仓库现货OHKURA大仓 化学清洗装置（化学回收法） SP4200C仓库现货OHKURA大仓 化学清洗装置（化学回收法） SP4200C该设备以化学方式去除 pH 电极上的水垢，专为超声波清洗或水射流清洗无效的区域而开发。 它是一种全自动化学清洗剂，以前是手动执行的，并定期注入化学溶液，由Buri清洗，并回收化学溶液。 它对
仓库现货OHKURA大仓 化学清洗装置（化学回收法） SP4200C
仓库现货OHKURA大仓 化学清洗装置（化学回收法） SP4200C
仓库现货OHKURA大仓 化学清洗装置（化学回收法） SP4200C
该设备以化学方式去除 pH 电极上的水垢，专为超声波清洗或水射流清洗无效的区域而开发。 它是一种全自动化学清洗剂，以前是手动执行的，并定期注入化学溶液，由Buri清洗，并回收化学溶液。 它对于测量烟气脱硫设备中的pH值特别有效。 该系统由一个控制面板、一个灌溉器（包括一个电极固定器）、一个化学品罐和一个保持放大器（可选）组成。
长处
■ 控制面板：内置顺序电路和电磁阀，用于确定
测量和清洗周期。
■ 化学品罐 由
罐体、支架、电磁阀等组成。
■ 清洁装置 利用来自控制面板的
信号，将电极支架抬起，在电极附近形成一个空间，用于注入和收集化学溶液。
■ 保持（可选） 在清洁期间，该
装置立即保持清洁前的 pH 值，并且 pH 值由控制面板的信号保持。