【京都玉崎】【日本NSC科学】大气压等离子体开针装置MP101
开启装置打开药PS105激光开封PL201DPL201-20/PL221Plasma 开箱MP101切割、研磨、抛光、拆包BA102干蚀刻设备ES373ES403测试设备FB102-0FB200产品列表大气压等离子体开针装置概述MP101 是一种 IC 封装开口装置,利用大气压下产生的氧等离子体去除树脂。特征打开后,芯片可以暴露几个小时(但这可能因树脂的类型和结构而异)。氧等离子体对覆盖膜(SiN
- 型号: MP101
开启装置打开药PS105激光开封PL201DPL201-20/PL221Plasma 开箱MP101切割、研磨、抛光、拆包BA102干蚀刻设备ES373ES403测试设备FB102-0FB200产品列表大气压等离子体开针装置概述MP101 是一种 IC 封装开口装置,利用大气压下产生的氧等离子体去除树脂。特征打开后,芯片可以暴露几个小时(但这可能因树脂的类型和结构而异)。氧等离子体对覆盖膜(SiN
MP101 是一种 IC 封装开口装置,利用大气压下产生的氧等离子体去除树脂。
打开后,芯片可以暴露几个小时(但这可能因树脂的类型和结构而异)。
氧等离子体对覆盖膜(SiN等)的影响较小,适合用于以功能操作为目的的封装开口。
这种紧凑的设备在大气压下产生等离子体,不需要真空泵。
这是一种使用氩气和氧气进行等离子体处理、使用水进行清洗的洁净装置,无需进行酸等废液处理。
填料去除过程(超声波清洗和干燥)已完全实现自动化。