【京都玉崎】【日本NSC科学】用于故障分析的干蚀刻设备ES403
开启装置打开药PS105激光开封PL201DPL201-20/PL221Plasma 开箱MP101切割、研磨、抛光、拆包BA102干蚀刻设备ES373ES403测试设备FB102-0FB200产品列表用于故障分析的干蚀刻设备概述和特点ES403反应离子蚀刻系统是一种干蚀刻系统，能够蚀刻最大尺寸为8英寸的晶圆。蚀刻可以在各向同性和各向异性模式下进行。蚀刻速率稳定，均匀性优良。可处理8英寸晶圆的大型
- 型号： ES403
用于故障分析的干蚀刻设备
概述和特点
ES403反应离子蚀刻系统是一种干蚀刻系统，能够蚀刻最大尺寸为8英寸的晶圆。
蚀刻可以在各向同性和各向异性模式下进行。
蚀刻速率稳定，均匀性优良。
可处理8英寸晶圆的大型工作台。
追求易用性。
蚀刻结果
均匀性评估
晶圆尺寸：8英寸
测定点数：49点
[蚀刻量] i = [蚀刻前膜厚] i - [蚀刻后膜厚] i
[蚀刻变化量] i = ([蚀刻量] i - [平均蚀刻量]) / [平均蚀刻量]
